В книге описаны технологические процессы формирования диэлектрических и
поликристаллических кремниевых пленок на поверхности полупроводниковых
пластин и эпитаксиалъного наращивания, приведены режимы обработки,
характеристики используемого оборудования, показаны последовательность и
особенности выполнения операций, методы контроля параметров процессов и
получаемых слоев.
